感应耦合等离子刻蚀系统
- 品牌： Oxford公司
- 型号： ICP 180样品最大尺寸：5寸；刻蚀气体：Ar、CHF3、CF4、SF6
- 产地： 英国
- 启用日期： 1969-12-31
- 学科领域： 信息科学与系统科学 物理学 材料科学
- 仪器名称：
- 感应耦合等离子刻蚀系统
- 英文名称：
- ICP
- 所属分类：
- 工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电路板制造工艺实验设备
- 学科领域：
- 信息科学与系统科学 物理学 材料科学
- 技术指标：
- 主要用于刻蚀Si基材料，Si，SiO2，SiNx，低温深Si刻蚀等，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。 ICP源功率：0 - 3000 W RIE源功率：0 - 600 W 基底温度：-120oC - 80oC 可调 刻蚀均匀性：±5% （ 4英寸 ） 装片：一片4英寸，向下兼容任意规格样品 刻蚀气体：BCl3，HBr，SF6，CF4，C4F8，CHF3，Ar，O2
- 主要功能：
- 通入反应气体使用电感耦合等离子体辉光放电将其分解，产生的具有强化学活性的等离子对样品表面既进行化学反应生成挥发性气体，又有一定的物理刻蚀作用。
- 服务内容：
- 硅深槽刻蚀
- 收费标准：
- 1000元/时
- 用户须知：
- 用户申请获批后经培训使用
感应耦合等离子刻蚀系统
仪器信息
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