真空多靶位控溅射系统
- 品牌： 沈阳科仪
- 型号： JGP-450A
- 产地： 中国
- 启用日期： 2012-06-30
- 学科领域： 物理学
- 仪器名称：
- 真空多靶位控溅射系统
- 英文名称：
- Magnetron sputtering system with multi targets
- 所属分类：
- 其他仪器 > 其他 > 其他
- 学科领域：
- 物理学
- 技术指标：
- 溅射室尺寸：Φ450×280；极限真空：6.6×10-5Pa 靶尺寸3×Φ60，样品尺寸：Φ40， 三靶共溅或直溅 样品台室温~500℃；射频电源：1套500W；（沈阳，带转换） 直流电源：2套500W； 镀膜过程采用计算机控制，具有：样品转盘复位功能；确认靶位功能；镀膜时间控制功能；样品转盘回转控制功能；靶级遮挡功能。磁动力传动杆可以从样品库传送样品到样品架；预处理室：反溅射清洗，原位退火400℃
- 主要功能：
- 主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。广泛应用于半导体行业、微电子及新材料领域。
- 服务内容：
- 各种薄膜的沉积
- 收费标准：
- 面议
- 用户须知：
- 无
真空多靶位控溅射系统
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