High-temperature metal-organic chemical vapor deposition system
所属分类:
工艺试验仪器 > 其他 > 其他
学科领域:
物理学
技术指标:
高温 MOCVD系统(3X2” Flip Top CCS MOCVD System)其主要特征是反应室能达到1300摄氏度以上的高温,为实现高质量AlN基半导体材料提供制备手段。主要组成部分包括: 1. CCS MOCVD:反应室部分,材料制备的最关键部分,包括加热器,样品托; 2. Gas Delivery system:气路部分,包括气动阀门以及压力和流量监控; 3. Process Control:控制电路部分; 4. Gas Purification:气体纯化部分,包括氢气,氮气和氨气的纯化器;