紫外光刻机

紫外光刻机

• 品牌： MYCRO
• 型号： NXQ4006
• 产地： 美国
• 启用日期： 2013-09-15
• 学科领域： 物理学

仪器信息

仪器名称：

紫外光刻机




英文名称：

UV Mask Aligner




所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备




学科领域：

物理学




技术指标：

曝光分辨率：0.6微米（真空接触模式）；基片尺寸：从5 mm方片到150 mm圆片，厚度可支持到10 mm；掩模版尺寸：从2”X2”到9”X9”；对准台：X-Y行程+/-3.8mm，角度+/-7度，正面套刻精度1 um；UV光源：350 W，350-450 nm；光强均匀度小于+/-1%@2”直径范围， 小于+/-2%@4”直径范围， 小于+/-3%@6”直径范围。




主要功能：

该设备具有双CCD高清全彩色可变显微镜，对准精度高；自动执行楔形误差补偿，找平后自动定位；样品台具有操控手柄调控模式，可以快速灵活地对准样品；最大可处理尺寸为6英寸的芯片，能快速升级到处理8英寸芯片；紫外光源可以由I线紫外光升级为深紫外光，进一步提高曝光的分辨率。




服务信息

服务内容：

该设备具有双CCD高清全彩色可变显微镜，对准精度高；自动执行楔形误差补偿，找平后自动定位；样品台具有操控手柄调控模式，可以快速灵活地对准样品；最大可处理尺寸为6英寸的芯片，能快速升级到处理8英寸芯片；紫外光源可以由I线紫外光升级为深紫外光，进一步提高曝光的分辨率。




收费标准：

根据具体实验项目协商




用户须知：

《北京大学仪器设备管理办法》（校发[2006]262号）和《北京大学大型仪器设备管理办法 校发[2006]263号》。我校大型仪器设备实行“专管共用、开放共享”的管理体制，按照优先满足校内教学科研需求、积极开展校外服务的原则实施开放共享工作。