原子能沉淀系统
- 品牌： Picosun
- 型号： SUNALE R-200型
- 产地： 芬兰
- 启用日期： 2012-08-31
- 学科领域： 物理学 材料科学
- 仪器名称：
- 原子能沉淀系统
- 英文名称：
- Atomic layer depositon system
- 所属分类：
- 其他仪器 > 其他 > 其他
- 学科领域：
- 物理学 材料科学
- 技术指标：
- 具有6路独立管道，可以扩展到12个包括液体、固体和气体的生长源； 具有一个普通生长腔体和一个粉体生长腔体，具有一个扩散停止阀； 衬底和腔体同时加热，最高温度500℃，控制精度2℃，薄膜不均匀度＜1%(6英寸)； 脉冲阀在200℃时能正常工作，设备上有红、黄、绿三个预警灯，源具有冷却设施。
- 主要功能：
- 在原子层尺寸上控制生长多层薄膜，包括金属氧化物、氮化物、硫化物、氟化物、纯金属涂层、纳米叠层、混合氧化物、掺杂薄膜。广泛用于微纳米级的研究、光电子学、光学、催化剂制造、清洁和可再生能源技术、水净化和创新型的包装材料等领域。
- 服务内容：
- 用于各类单层、多层介质薄膜的沉积，研究各类电子器件和光电器件的研究；实验物理课程中开设界面化学作用、界面电荷效应等相关的实验。
- 收费标准：
- 面议
- 用户须知：
- 与半导体所、北京航空航天大学等单位合作横向项目2项,故需提前预约
原子能沉淀系统
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